迄今，能源、材料和信息被認(rèn)為是新興新技術(shù)革命的三大支柱。在材料方面，電子材料的發(fā)展尤為引人注目。劃時(shí)代的半導(dǎo)體生產(chǎn)新技術(shù)、新材料、新儀器不斷涌現(xiàn)，迅速成為生產(chǎn)力和生產(chǎn)工具，在一定程度上促進(jìn)了集成電路產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展。

　　半導(dǎo)體工業(yè)在生產(chǎn)過(guò)程中需要大量的清洗水。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷發(fā)展，對(duì)清洗水的電導(dǎo)性、離子含量、TOC、DO、Particles的要求也越來(lái)越嚴(yán)格。由于半導(dǎo)體超純水對(duì)多項(xiàng)指標(biāo)的要求較高，超純水不同于它他行業(yè)對(duì)水的要求，半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超純水的水質(zhì)要求較為嚴(yán)格。目前，我國(guó)常用的超純水標(biāo)準(zhǔn)是國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)《電子級(jí)水》(GB/T1446.1-2013)和美國(guó)標(biāo)準(zhǔn)(Astm-D5127-13)。

　　超純水設(shè)備可連續(xù)穩(wěn)定地制備優(yōu)質(zhì)超純水，水質(zhì)穩(wěn)定在ppt水平，特別是硼離子可≤5ppt，可更好地幫助半導(dǎo)體企業(yè)的發(fā)展，形成更強(qiáng)的企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

　　超純水設(shè)備采用兩級(jí)RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝，設(shè)計(jì)成熟、可靠、自動(dòng)化程度高，保證處理后出水電阻率達(dá)到18mΩ。CM以上。EDI處理裝置廢水產(chǎn)量少，不會(huì)污染環(huán)境，具有很高的環(huán)境效益和經(jīng)濟(jì)效益。經(jīng)過(guò)技術(shù)升級(jí)，精混床無(wú)需任何操作即可穩(wěn)定運(yùn)行兩年。其出水水質(zhì)能滿足芯片生產(chǎn)用水的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，降低企業(yè)生產(chǎn)風(fēng)險(xiǎn)和成本。在萊特萊德EDI超純水設(shè)備的大力支持下，半導(dǎo)體行業(yè)的繁榮將繼續(xù)上升。